Close Menu
Український телекомунікаційний портал
    Facebook X (Twitter) Instagram Threads
    Український телекомунікаційний портал
    • Новини
    • Мобільна техніка
    • Технології
    • ПЗ
    • Наука
    • Транспорт
    • Дім
    • Обладнання
    • Здоров’я
    Facebook X (Twitter) YouTube Telegram
    Український телекомунікаційний портал
    Home»Новини»Технології»TSMC ускорит развитие 10-нанометровой технологии
    Технології

    TSMC ускорит развитие 10-нанометровой технологии

    ВолодимирBy Володимир09.07.20145 коментарів1 Min Read
    Facebook Twitter Email Telegram Copy Link

    Компания TSMC, по сообщению DigiTimes, вынуждена ускорить развитие новых технологий производства микрочипов из-за усиливающейся конкуренции с Samsung. В настоящее время и TSMC, и Samsung всецело заняты внедрением методики FinFET, которая предусматривает применение транзисторов с трёхмерной структурой. При этом TSMC будет производить продукцию по нормам 16 нанометров, а Samsung – 14 нанометров. Причём последняя уже получила крупного заказчика в лице компании Qualcomm, которая отказалась от услуг TSMC (поговаривают, что причиной стало выделение существенной части производственных мощностей TSMC под нужды Apple).

    Bohemian Nomad Picturemakers/Corbis

    В конце текущего года на предприятиях TSMC стартует пробное производство чипов по 16-нанометровой методике FinFET. К концу 2014-го TSMC также планирует представить 16-нанометровый техпроцесс FinFET+, который обеспечит улучшенные показатели энергопотребления чипов.

    Charles O'Rear/Corbis

    Так или иначе, массовый выпуск продукции по технологии FinFET компании TSMC и Samsung освоят не ранее начала 2015-го. В то же время участники отрасли говорят, что TSMC не ожидала столь активного внедрения новой методики со стороны южнокорейской компании. Это и вынудило TSMC ускорить развитие технологии следующего поколения с нормами в 10 нанометров.

    Ранее сообщалось, что TSMC намерена сформировать специальное подразделение со штатом в 300–400 человек для разработки и внедрения 10-нанометровой методики. Пробный выпуск чипов по такой технологии планируется начать в 2015 году.

    http://3dnews.ru

    Читайте також

    Створено дрон з аерогелевою оболонкою для роботи у вогні при 175°C

    27.01.2026

    Створено гнучкий чіп завтовшки з людського волосся

    25.01.2026

    Інженери створили бездротовий чип зі швидкістю, як у оптоволокна

    23.01.2026

    Останні

    Вчені з’ясували, що спільне полювання може врятувати горбатих китів

    27.01.2026

    Символ підземного світу у вигляді сови виявлено у мексиканській гробниці сапотеків

    27.01.2026

    Вчені створили «звуковий лазер», який може радикально покращити смартфони

    27.01.2026

    Вчені відкривають завісу над утворенням Скелястих гір

    27.01.2026
    Facebook X (Twitter) YouTube Telegram RSS
    • Контакти/Contacts
    © 2026 Portaltele.com.ua. Усі права захищено. Копіювання матеріалів дозволено лише з активним гіперпосиланням на джерело.

    Type above and press Enter to search. Press Esc to cancel.

    Go to mobile version