Canon постачатиме обладнання для виробництва 5-нм мікросхем без літографії

Canon представила установку під позначенням FPA-1200NZ2C, що дозволяє робити 5-нанометрові чіпи. Це перше комерційне рішення такого роду, але будуть і інші: Canon у майбутньому допрацює систему так, щоб за її допомогою можна було виготовляти 2-нанометрові чіпи.

Найголовніше — тут використовується підхід, альтернативний звичайній фотолітографії. В основі FPA-1200NZ2C лежить принцип наноімпринт-літографії: замість фотошаблону як у класичній оптичній літографії використовується штамп із нанорельєфом. А нанорельєф, своєю чергою, служить для формування маски з полімерного шару на поверхні напівпровідникової підкладки. Canon запевняє, що наноімпринт-літографія простіше та дешевше.

«Оскільки нове рішення не вимагає джерела світла зі спеціальною довжиною хвилі, воно може значно знизити енергоспоживання порівняно з фотолітографічним обладнанням для найсучасніших напівпровідників, тим самим сприяючи скороченню викидів CO2», — заявила Canon.

Навряд чи обладнання японської компанії зацікавить ту ж TSMC, але, наприклад, у Китаї були б раді отримати машини, які можуть виробляти 5-нанометрові чіпи. Huawei й так збільшила обсяги закупівель DUV-літографів ASML і не виключено, що вона зацікавиться і FPA-1200NZ2C.